2025年11月13日至15日，中国光学工程学会公布了“2023-2025年微纳制造成果展”入选名单。物理与光电工程学院（理工学院）光子技术研究院段宣明教授带领的纳米光刻技术团队（段宣明、赵圆圆、梁紫鑫、陈经涛）联合中国科学院理化技术研究所（郑美玲、董贤子、金峰）研发的系列成果——超快激光无掩模超衍射纳米光刻技术、装备与应用工艺，被评为“优秀成果”，充分展现了团队在新原理纳米光刻领域的创新能力与技术突破。
微纳制造是当前集成电路和平板显示产业的支撑性技术，也是光子芯片、光电子新材料、新型显示、MEMS传感器、生物医疗芯片、新能源器件等战略性新兴产业的核心关键技术，其发展水平直接决定了我国高端微纳装备、光电子、电子信息、生物医药等领域的竞争力。为全面贯彻国家关于“加快壮大高端装备制造产业”的战略部署，聚焦微纳制造领域关键核心技术突破与产业应用创新，搭建“技术研发—成果展示—产业对接”的高端交流平台，推动微纳制造技术向高精度、智能化、绿色化、融合化、产业化发展，中国光学工程学会组织开展“2023-2025年微纳制造成果展”评选活动，并在2025年“第九届微纳光学技术与应用交流会”上展出入选的“优秀成果”和“提名成果”。
该展旨在集中展示近三年我国在微纳制造领域取得的标志性突破，涵盖基础原理、制造工艺、装备技术、新型材料、应用场景等全链条创新成果，挖掘并推广一批具有行业引领性、技术突破性的标杆案例，促进产学研用深度融合，加速成果转化落地，为我国微纳制造产业高质量发展注入新动能。
该展依据成果类别，分为核心技术成果、应用场景成果和标准化成果三个类别；依据成果属性，分为“原始性创新”和“改进型突破”两大类。针对申报单位属性，开通“学术”和“产业”两个申报通道。申报截止后，学会组织专家对申报的成果进行函评和会评，最终入选“优秀成果”20项，“提名成果”21项。入选成果在大会期间进行了展板展出、路演成果宣讲及入选会议手册宣传。
段宣明教授带领的联合研究团队长期从事超快激光纳米加工及光刻技术研究。团队围绕突破光学衍射极限这一重大科学问题，原创性地提出了非简并多光子纳米加工新原理，实现了13 nm直写加工分辨率；原创性地提出激光扫描与投影相结合的跨尺度微纳结构光刻方法，实现了包括从10 nm至150 μm尺寸复杂结构并存的跨尺度微纳结构高效光刻；并首次在无掩模投影光刻中实现了数字移相掩模、原位多重曝光及数字反演计算光刻等分辨力增强技术。团队所开展的无掩模超衍射纳米光刻技术已获中、日、美、欧等专利授权10余项，实现了最小特征尺度仅为10 nm，半间距λ/4NA的无掩模光刻，技术水平达到国际领先。在此基础上，团队发展了一种大面积、高精度、高效率、跨尺度微纳结构无掩模纳米光刻原理与技术，完成了一套具有自主知识产权的国际首台数字无掩模纳米光刻装备样机，开发了配套的创新芯片光刻工艺，并在器件与芯片制造中进行应用示范，实现了贯穿新原理、新技术、新装备、新工艺、新应用的无掩模超衍射纳米光刻技术、装备与应用全价值链创新。
入选成果展出海报
“优秀成果”入选名单
图文：赵圆圆
校对：杨嘉琳
初审：肖艳芳
复审：孙玉环
终审：黄 睿